Positron Profilometry

Probing Material Depths for Enhanced Understanding
143 Seiten, Taschenbuch
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Reihe SpringerBriefs in Materials
Themen Technologie, Ingenieurswissenschaft, Landwirtschaft, Industrieprozesse Maschinenbau und Werkstoffe Materialwissenschaft Werkstoffprüfung
ISBN 9783031410925
Sprache Englisch
Erscheinungsdatum 09.09.2023
Größe 23.5 x 15.5 cm
Verlag Springer International Publishing
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Europaplatz 3 | DE-69115 Heidelberg
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Kurzbeschreibung des Verlags

This book provides a comprehensive overview of positron profilometry, specifically focusing on the analysis of defect depth distribution in materials. Positron profilometry plays a crucial role in understanding and characterizing defects in a wide range of materials, including metals, semiconductors, polymers, and ceramics. By analyzing the depth distribution of defects, researchers can gain insights into various material properties, such as crystal structure, defect density, and diffusion behavior. The author's extensive research spanning a period of two decades has primarily centered on subsurface zones. These regions, located beneath the surface and subjected to various surface processes, play a crucial role in generating defect distributions. Three experimental techniques and their data analysis are described in detail: a variable-energy positron beam (VEP) called sometimes a slow positron beam, a technique called implantation profile depth scanning (DSIP), and a sequential etching(SET) technique. The usability of these techniques is illustrated by many examples of measurements by the author and others.

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