Patentgesetz. PatG

Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz

von Georg Benkard

2501 Seiten, Hardcover

Kurzbeschreibung des Verlags

Zum Werk

Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.

Vorteile auf einen Blick

Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker

Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard

Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes

Zur Neuauflage

Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.

Zielgruppe

Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.

• Reihe: Beck'sche Kurz-Kommentare
• ISBN: 9783406727894
• Erscheinungsdatum: 29.06.2023
• Genre: Recht/Handelsrecht, Wirtschaftsrecht
• Verlag: C.H.Beck
• Sonstige Bearbeitung von: Klaus Bacher
• Sonstige Bearbeitung von: Klaus Bacher, Friedrich-Wilhelm Engel, Stephan Fricke, Klaus Grabinski, Helga Kober-Dehm, Klaus-Jürgen Melullis, Julia Nobbe, Annette Rupp-Swienty, Hubertus Schacht, Uwe Scharen, Ina Schnurr, Walter Schramm, Hans-Detlef Schwarz, Peter Tochtermann