Einflussfaktoren auf die Emissionseigenschaften einer EUV Strahlungsquelle im Langzeitbetrieb

146 Seiten, Buch
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Reihe Ergebnisse aus der Lasertechnik
ISBN 9783863598594
Erscheinungsdatum 11.05.2020
Genre Naturwissenschaften allgemein
Verlag Apprimus Verlag
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Kurzbeschreibung des Verlags

Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung – dem hohlkathodengetriggerten Pinchplasma – bezüglich der im Langzeitbetrieb relevanten Einflussfaktoren untersucht. Signifikante Verbesserungen der Leistungsfähigkeit werden demonstriert und ein technologischer Ausblick vorgestellt.

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