GUTSCHEIN
Bitte haben Sie einen Moment Geduld, wir legen Ihr Produkt in den Warenkorb.
Bitte haben Sie einen Moment Geduld, wir legen Ihr Produkt in den Warenkorb.
| ISBN | 9789810218843 |
|---|---|
| Sprache | Englisch |
| Erscheinungsdatum | 09.11.1996 |
| Größe | 226 x 157 mm |
| Verlag | World Scientific Publishing Company |
| Lieferzeit | Lieferung innerhalb von 28 Werktagen |
| Herstellerangaben | Anzeigen Libri GmbH Europaallee 1 | D-36244 Bad Hersfeld gpsr@libri.de |
This book describes advanced epitaxial growth and self-aligned processing techniques for the fabrication of III-V semiconductor devices such as heterojunction bipolar transistors and high electron mobility transistors. It is the first book to describe the use of carbon-doping and low damage dry etching techniques that have proved indispensable in making reliable, high performance devices. These devices are used in many applications such as cordless telephones and high speed lightwave communication systems.
| ISBN | 9789810218843 |
|---|---|
| Sprache | Englisch |
| Erscheinungsdatum | 09.11.1996 |
| Größe | 226 x 157 mm |
| Verlag | World Scientific Publishing Company |
| Lieferzeit | Lieferung innerhalb von 28 Werktagen |
| Herstellerangaben | Anzeigen Libri GmbH Europaallee 1 | D-36244 Bad Hersfeld gpsr@libri.de |
Wie gefällt Ihnen unser Shop?